多功能真空镀膜机
更新：2015-10-12 16:50 编号：2298375 IP：113.116.15.140 浏览：173次
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- 深圳市昊光机电科技应用有限公司 商铺
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产品详细介绍
本设备是利用真空磁控溅射镀膜方式，可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金属等材料表面镀制各种金属、非金属、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等，沉积的薄膜具有良好的均匀性、附着力，设备具有溅射速率快、基片升温低、加热稳定等特点。
设备配置如下：
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序号
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项目
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基本型
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LOADLOCK型
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1
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镀膜室尺寸
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∮500
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∮500
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2
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真空室数量
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1
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2
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3
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镀膜方向
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上垂直安装阴极，向下溅射
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上垂直安装阴极，向下溅射
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4
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阴极尺寸
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∮50、∮100、∮160
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∮50、∮100、∮160
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5
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阴极数量
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2-6个
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2-6个
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6
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真空系统
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粗抽+分子泵组
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粗抽+分子泵组
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7
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工艺气体路数
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4路
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4路
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8
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压力检测
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MKS
1Torr
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MKS
0.5Torr
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9
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极限真空度
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8*10-5Pa
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8*10-5Pa
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10
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镀膜电源
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直流、中频、射频
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直流、中频、射频
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11
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加热温度
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Zui高350度
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Zui高350度
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12
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膜层数量
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单层-多层
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单层-多层
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13
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膜层种类
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金属膜、反应膜、绝缘膜
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金属膜、反应膜、绝缘膜
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14
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样片尺寸
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Zui大8寸
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Zui大8寸
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15
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样片数量
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单片为主
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单片为主
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16
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溅射不均匀性
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≤±5%
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≤±3%
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17
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控制系统
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PC+PLC
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PC+PLC
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18
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控制方式
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自动+手动
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自动+手动
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