磁控平面阴极靶
更新时间：2015-10-12 16:50:11 信息编号：2298396 发布者IP：113.116.15.140 浏览：139次
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产品详细介绍
平面溅射阴极
特点：
1、 采用独特的磁路设计，突破传统模式，更符合磁控溅射的理念。
2、 采用独特的结构设计，可以内置、外置，更符合使用要求。
3、 更高的溅射率，离子密度更强。
4、 更高的利用率，高达40%以上。
5、 尺寸范围：300-3000mm区间，保持一致的均匀性
6、使用范围：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等
应用领域：
半导体、MEMS、TFT、ITO、LOW-E玻璃、硬质涂层、装饰性膜层
主要经营：激光设备、真空镀膜机、DPC陶瓷基板、陶瓷金属化加工
深圳市昊光机电应用科技有限公司是一家集科研、开发、生产、贸易为一体的高新技术企业。公司积极引进国外先进制造技术，发展创新，结合生产实际，逐渐形成以光盘母盘制造、精密微结构制造、材料表面真空处理、等离子 ...
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