旋转阴极
特点:
1、采用独特的磁路设计,突破传统模式,更符合磁控溅射的理念。
2、采用独特的结构设计,冷却充分,可满足大功率、大电流使用要求。
3、更高的溅射率,离子密度更强。
4、更高的利用率,高达70以上。
5、尺寸范围:靶材外尺寸70、100、150、250,保持一致的均匀性
6、使用范围:如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等。
使用领域:装饰镀、工具镀、ITO、光伏、LOE-E玻璃等
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