X62 305-2型单面抛光机

一、设备用途

本机适用于直径100mm以下的硅片、锗片、砷化镓、铌酸锂、蓝宝石等片状材料的单面高精度抛光加工。

二、主要特点

ø该设备采用了四个抛光头主动驱动方式，变频调速，设备运转平稳、使用可靠、操作方便。

ø主抛光盘旋转采用变频调速，机器起动、停止平稳。

ø主抛盘采用水冷方式，冷却方式的内部结构做了明显的改进。

ø主抛盘采用红外测温、控温装置。

ø抛光过程分三个阶段（三阶段时间控制自动切换）。

（1）阶段一（轻抛）：通抛光液，工作压力抛光头自重减去反压压力。

（2）阶段二（主抛）：通抛光液，工作压力为抛光头自重加正压压力减去反压压力。

（3）阶段三（水抛）：通去离子水，抛光压力与阶段一相同。

ø配有冲洗开关喷头。

ø承片盘为氧化铝陶瓷。

ø抛光头升、降及正反压采用主令开关控制电磁阀和精密减压阀调节控制，且四个抛光头分别控制。

ø主传动传动采用了住友的蜗轮蜗杆减速箱，四个抛光头传动采用了四个住友减速电机驱动。

三、设备基本参数:

l下抛光盘直径φ820mm

l承片盘直径φ305mm

l抛光头数量4

l气缸直径φ140mm

l抛光头升降行程180mm

l抛光头自重{包括活塞、活塞杆、承片盘}约53kg

l气缸工作时气压调整范围0--0.15mpa

l红外测温仪控温范围0-100℃

l抛光过程各阶段时间设定范围：

阶段一（轻抛）0---9999s

阶段二（主抛）0---9999s

阶段三（水抛）0---9999s

l抛光件Zui大直径φ300mm

l抛光硅片适合直径φ50-φ100mm

l主电机11kw380v50hz

l液泵电机370w

l抛光头驱动电机4x0.75kw

l下抛光盘转速0-80rpm（调频调速）

l抛光头转速0-63rpm（调频调速）

l电源三相380v±10%。

l设备外型尺寸1950x1150x2150mm

l设备重量约3000kg

三、加工能力

单头承片量：5片(4〃)8片(3〃)

整盘承片量：20片(4〃)32片(3〃)