上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40
更新时间：2023-11-03 16:27:43 信息编号：3340561 发布者IP：113.90.157.200 浏览：164次
- 供应商
- 伯东企业(上海)有限公司 商铺
- 认证
- 资质核验：已通过营业执照认证入驻顺企：第10年主体名称：伯东企业(上海)有限公司
- 报价
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- 品牌
- KRI
- 型号
- RFICP 40
- 关键词
- 上海伯东代理，美国原装进口 ，KRI 射频离子源， RFICP 40
- 所在地
- ec@hakuto-vacuum.cn
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产品详细介绍
KRI 射频离子源 RFICP 40
上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸*小, 低成本高效离子源.
适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP
40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP
40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至
1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.
射频离子源 RFICP 40 特性:
1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.
2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单; 基座可调节, 优化蚀刻率和均匀性.
3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束
4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用
6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性
KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:
|
型号 |
RFICP 40 |
|
Discharge 阳极 |
RF 射频 |
|
离子束流 |
>100 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
4 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
3-10 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
12.7 cm |
|
直径 |
13.5 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域：
预清洗
表面改性
辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40
年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域,
上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗女士
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