上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100
更新时间：2023-11-09 15:23:43 信息编号：3184172 发布者IP：113.90.157.200 浏览：422次
- 供应商
- 伯东企业(上海)有限公司 商铺
- 认证
- 资质核验：已通过营业执照认证入驻顺企：第11年主体名称：伯东企业(上海)有限公司
- 报价
- 请来电询价
- 品牌
- KRI
- 型号
- RFICP 100
- 产地
- 美国
- 关键词
- 上海伯东代理，美国原装进口， KRI 考夫曼型离子源 ，RFICP 100
- 所在地
- ec@hakuto-vacuum.cn
- 联系电话
- 021-50463511
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产品详细介绍
KRI 射频离子源 RFICP 100
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP
100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP
100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件,
可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下
RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以达到 400 mA.
KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数
|
阳极 |
电感耦合等离子体 |
|
*大阳极功率 |
600W |
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*大离子束流 |
> 300mA |
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电压范围 |
100-1200V |
|
离子束动能 |
100-1200eV |
|
气体 |
Ar, O2, N2,其他 |
|
流量 |
5-20 sccm |
|
压力 |
< 0.5mTorr |
|
离子光学, 自对准 |
OptiBeamTM |
|
离子束栅极 |
10cm Φ |
|
栅极材质 |
钼, 石墨 |
|
离子束流形状 |
平行,聚焦,散射 |
|
中和器 |
LFN 2000 |
|
高度 |
23.5 cm |
|
直径 |
19.1 cm |
|
锁紧安装法兰 |
10”CF |
KRI 射频离子源 RFICP 100 应用领域
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置如下
美国
KRI 射频离子源 RFICP 100
美国
HVA 真空闸阀
德国
Pfeiffer 分子泵 HiPace 2300
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40
年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域,
上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗女士
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