TGP-600/800多弧离子镀膜机

多弧离子镀膜机主要由镀膜腔室、6或9套多弧靶、多弧电源，扩散泵系统、旋转基片台、管状加热器、气路系统、水路系统、控制系统等组成。该设备具备6或9靶共溅射功能，可制备导电膜、半导体膜等单层或多层膜。控制系统采用手/自动控制。薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛，沉积薄膜效率高，适用于工具镀、装饰镀等。

技术参数

设备名称：tgp-600多弧离子镀膜机/tgp-800多弧离子镀膜机

真空室尺寸:φ600mm×h600mm/φ800mm×h900mm

可镀空间:φ300mm×h300mm/φ500mm×h600mm

基片台：0-20rpm、磁流体轴密封、公自转基片台

多弧靶：6或9只多弧靶

电源：多弧电源、偏压电源

工件烘烤温度：室温至500℃可控可调

真空室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冷腔室

真空系统：扩散泵+机械泵+维持泵,从大气至10-3pa恢复真空时间≤20min

极限真空：5.0×10-4pa

控制系统：自动抽真空

报警及保护：对泵、靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施

选购件：冷却循环水机