HFCVD 热丝化学气相沉积设备

研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。
设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。

可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。
可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的金刚石产品。
可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。
可用于太阳能薄膜电池的研发与生产。

工件尺寸
圆形平面工作的尺寸：Zui大φ600mm。
矩形工作尺寸的宽度1000mm/长度可根据镀膜室的长度确定（如：工件长度1500mm）。
配置水冷样品台。
可单面镀膜也可双面镀膜。

热丝电源功率
可达300KW，1KW～300KW可调（可根据用户工艺需求配置功率范围）
设备安全性
- 电力系统的检测与保护
- 设置真空检测与报警保护功能
- 冷却循环水系统压力检测和流量检测与报警保护
- 设置水压检测与报警保护装置
- 设置水流检测报警装置

设备构成

真空室构成
双层水冷结构，立式圆形、立式D形、立式矩形、卧式矩形,前后开门，真空尺寸,根据工件尺寸和数量确定。
热丝
热丝材料：钽丝、或钨丝
热丝温度：1800℃～2500℃ 可调
热丝不塌腰（解决了热丝长时间加热塌腰问题）。
样品台
可水冷、可加偏压、可旋转、可升降，由调速电机控制，可实现自动升降，（热丝与衬底间距在5～100mm范围内可调），要求升降平稳,上下波动不大于0.1mm。
工作气路（CVD）
工作气路根据用户工艺要求配置：
下面气体配置是某一用户的配置案例。
H2（5000sccm，浓度*1*0*0*%）
CH4（200sccm，浓度*1*0*0*%）
B2H6（50sccm，H2浓度99%）
Ar（1000sccm，浓度*1*0*0*%）
真空获得及测量系统
控制系统及软件