x光射线 (以下简称x-ray) 是利用一阴极射线管产生高能量电子与金属靶撞击,在撞击过程中,因电子突然减速,其损失的动能会以x-ray形式放出,其具有非常短的波长但高电磁辐射线。而对于样品无法以外观方式检测的位置,利用纪录x-ray穿透不同密度物质后其光强度的变化,产生的对比效果可形成影像即可显示出待测物之内部结构,进而可在不破坏待测物的情况下观察待测物内部有问题的区域。
检测项目:
1.ic封装中的缺陷检验如﹕层剥离(stripping)、爆裂(crack)、空洞(cavity)以及打线的完整性检验。
2.印刷电路板制程中可能产生的缺陷,如﹕对齐不良或桥接(bridging)以及开路(open)。
3.smt焊点空洞(cavity)现象检测与量测(measuration)。
4.各式连接线路中可能产生的开路(open),短路(short)或不正常连接的缺陷检验。
5.锡球数组封装及覆芯片封装中锡球(solder ball)的完整性检验。
标准:
1)ipc-a-610d (e) 电子组件的可接受性。
2)mil-std 883g-2006微电子器件试验方法和程序
3)gjb 548b-2005微电子器件试验方法和程序
4)gjb 4027a-2006军用电子元器件破坏物理分析方法
5)gjb 128a-1997半导体分立器件试验方法
1)ipc-a-610d (e) 电子组件的可接受性。
2)mil-std 883g-2006微电子器件试验方法和程序
3)gjb 548b-2005微电子器件试验方法和程序
4)gjb 4027a-2006军用电子元器件破坏物理分析方法
5)gjb 128a-1997半导体分立器件试验方法
设备:
即时成像分辨率可达0.25微米 可测量样品尺寸 Zui大管电压:160kv,Zui大功率10w 探测头倾斜角度:140度 样品可360度旋转,60度倾斜 几何放大高达2,000倍,总放大倍数高达11,000 检测面积400mm(长)*400mm(宽)*100mm(高)/承重5kg |
典型图片: