半导体行业高纯水设备

水质要求
微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。中国电子工业部电子级水质技术标准分为五级（18MΩ·CM、15 MΩ·CM、10 MΩ·CM、2 MΩ·CM 、0.5 MΩ·CM），具体指标请参考电子级水质技术标准。

典型工艺流程
●预处理→一级反渗透系统→PH调节装置→中间水箱→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→用水对象【电阻率≥0.5MΩ·CM】
●预处理系统→反渗透系统→纯水箱→纯水泵→体内再生混床→精密过滤器→用水对象【传统工艺，电阻率≥2MΩ·CM】
●预处理系统→反渗透系统→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→用水对象【≥10-15 MΩ·CM，荐新工艺】
●预处理→双级反渗透系统→RO纯水箱→纯水泵→抛光混床→用水对象【电阻率≥2-10MΩ·CM】
●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→用水对象【≥15-17 MΩ·CM，推荐新工艺】
●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→抛光混床→微孔膜过滤器→用水对象 【≥18 MΩ·CM，Zui新工艺】

典型案例