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水质要求
微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。中国电子工业部电子级水质技术标准分为五级（18MΩ·CM、15 MΩ·CM、10 MΩ·CM、2 MΩ·CM 、0.5 MΩ·CM），具体指标请参考电子级水质技术标准。
典型工艺流程
●预处理→一级反渗透系统→PH调节装置→中间水箱→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→用水对象【电阻率≥0.5MΩ·CM】
●预处理系统→反渗透系统→纯水箱→纯水泵→体内再生混床→精密过滤器→用水对象【传统工艺，电阻率≥2MΩ·CM】
●预处理系统→反渗透系统→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→用水对象【≥10-15 MΩ·CM，荐新工艺】
●预处理→双级反渗透系统→RO纯水箱→纯水泵→抛光混床→用水对象【电阻率≥2-10MΩ·CM】
●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→用水对象【≥15-17 MΩ·CM，推荐新工艺】
●预处理→双级反渗透系统→紫外线杀菌器→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→抛光混床→微孔膜过滤器→用水对象 【≥18 MΩ·CM，最新工艺】
典型案例
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额定产量：500升/小时
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额定产量：3吨/小时
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产水水质：电阻率≥0.5MΩ·CM
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产水水质：电阻率≥5MΩ·CM
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采用工艺：双级反渗透
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采用工艺：反渗透+体内再生混床
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典型用户：苏州天瑞电子
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典型用户：无锡三达电子
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应用范围：电子产品清洗
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应用范围：电子元器件清洗
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额定产量：3吨/小时
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额定产量：2吨/小时
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产水水质：电导率≤3μs/cm
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产水水质：电阻率≥15 MΩ·CM
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采用工艺：双级反渗透
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采用工艺：双级反渗透+EDI
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典型用户：江苏达科电子
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典型用户：江苏海德旺斯
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应用范围：高能电子
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应用范围：光伏新材料
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