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无接触式硅片厚度、TTV、电阻率测量仪Dsi2000

信息编号:1740869 发布者IP:140.206.255.237 浏览:664次
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产品详细介绍

       本设备是一款手动无接触式测量仪,采用测量原理为电容法和涡流法,测量操作简单,强大的数据处理功能,支持多种格式的数据报告。

测量指标如下:
硅片规格:
     方片:125x125mm、156x156mm
     圆片:3″、4″、5″、6″、8″
测试功能:
       厚度:单点及多点厚度
       TTV:总厚度偏差
       体电阻率:单点及多点体电阻率

厚度指标:
       测量范围:150μm-1000μm(可调)
       偏差:≤±1.0μm
       重复性:1σ≤0.2μm
       长时间稳定性(10小时:1σ≤0.15μm

TTV指标:
       测量范围:0.0μm-200μm
       偏差:≤±0.5μm
       重复性 :1σ≤0.2μm

电阻率指标:
       测量范围:0.1Ω.cm-30Ω.cm
       偏差:≤±3%*R
       重复性:1σ≤1.5%*R

测试环境要求:
       温度范围:15~27℃
       湿度范围:35%~85%

所属分类:中国仪表网 / 测厚仪
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主要经营:无接触式硅片厚度电阻率测量仪-Dsi2000,无接触式晶圆几何参数测量仪-Dsi800
我公司主要致力硅片、蓝宝石等材料的相关参数测量设备的研发生产,目前已经成功研发的相关参数有:厚度、TTV、体电阻率、Warp(翘曲度)、Bow(弯曲度),还可以粗测TIR(合局平整度)和FPD(焦平面 ...
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