CW2010—Z轴测量显微镜
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- 上海测维光电技术有限公司 商铺
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- 是否提供加工定制
- 是
- 类型
- 测量显微镜
- 品牌
- CEWEI
- 所在地
- 中国 上海市 上海市杨浦区辽阳路411号208-209 410-411室(近昆明路上海*集团)
- 联系电话
- 86 021 65465201/029-86227685
- 手机号
- 15221109705
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产品详细介绍
是否提供加工定制 | 是 | 类型 | 测量显微镜 |
品牌 | CEWEI | 型号 | CW2010 |
仪器放大倍数 | 500X | 目镜放大倍数 | 10X |
物镜放大倍数 | 5X,10X,20X,50X | 重量 | 120K(g) |
适用范围 | 适用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片测试、半导体材料、线束加工蚀刻、液晶电池盖、导线框架等产品的检查观察. | 装箱数 | 1 |
cw2010—z轴测量显微系统
2010年测维光电成功研发出一整套显微测量系统,为我国显微数码成像行业的发展,尽一份绵薄之力,我们相信测维的明天更美好!
全部显微镜系统由进口件经测维工厂精心组装而成,其光学品质达到国外同功能台式机水平,在技术上填补了国内这方面的空缺,又因为是整系列奉献所以不用再东拼西凑的组合成套,具有很优越的兼容性。工业级检查显微镜具明显的优势是专门为在线生产量身打造,攻克了目力观察的弊端和场地狭小的限制。提高了生产流水线的技术含量和整合品质。其超值的优越性是不言而喻的
一、特点:以影像法为测量原理,
采用光学焦点位置检测方式进行非接触高低差测量。不仅可以对准目标影像,
还能观察测量点的表面状态,对高度,深度,高低差等进行测量。本仪器的各种镜筒还具有明暗场,微分干涉,偏光的观察功能。所以对极细微的间隙高低差,夹杂物、微米以下的突起、细微划痕进行观察。
二、用途:适用于硅片、ic、lcd、tft、pcb、mems激光加工、晶片测试、半导体材料、线束加工蚀刻、液晶电池盖、导线框架等产品的检查观察.也适用于经过磨抛、化学处理的工件表面的金相组织结构,几何形状进行显微观测。并且有三维的计量功能,其解析率达0.0005mm。因此是精密零件,集成电路,半导体芯片,光伏电池,光学材料等行业的必用仪器。
三、主要规格
2.1 镜筒:铰链式三目头部 30°倾斜 270°旋转
2.2高眼点平场目镜: wf10x/22
2.3超长物距平场物镜:pll5x/0.12 wd 26.1, pll10x/0.25
wd 20.2, pll20x/0.40 wd 8.80, pll50x/0.7 wd 3.68。
2.4右倾式内定位5孔转换器
2.5 落射式照明系统: 卤素灯12v30w,
内置孔径光阑,五孔转盘滤色装置(黄、绿、蓝、磨砂)推拉式检偏器和起偏器。
2.6 调焦结构:粗微动同轴调焦, 带锁紧和限位装置 粗动升降范围30mm 微动格值
0.001mm*100格 数显解析值 0.0005mm。
2.7光源:卤素灯 亮度可调 6v30w(bd:12v50w)
2.8 普通透射照明:可选
2.9 z轴升降范围:手轮转动130mm 允许Zui高工件 130mm
x轴移动范围 200mm 解析率:0.001mm 可解锁手动快进
y 轴移动范围 100mm 解析率:0.001mm 可解锁手动快进
测量精度(3+l/100)mm (l: 被测长度)
落射光测量误差≤0.08%
3.0工作台尺寸: 360mm*250mm 玻璃板尺寸: 225mm *175mm
工作台承重: 30kg
3.1仪器外型尺寸:380mm*550mm*830mm
3.2净重:100kg 毛重:120kg
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