应用领域
ø 快速热退火 (rta); 离子注入后退火
ø 石墨烯等气象沉积,碳纳米管等外延生长
ø 快速热氧化 (,rto); 热氮化 (rtn);
ø 硅化 (silicidation);
ø 扩散 (diffusion);
ø 离子注入后退火 (implant annealing);
ø 电极合金化 (contact alloying);
ø 晶向化和坚化 (crystallization and densification);
主要特点
ø 极速升温100℃/s,极速降温100℃/s;
ø 双层炉管结构,气氛与样品接触更均匀;
ø 直接测量样品表面温度,测温更精准;
ø 炉膛根据设置可自动左右移动,可以满足更多的实验应用;
ø 真空度可达7.4×10-4pa;
型号 |
极限 温度 |
升温速率 ℃/s |
降温速率 |
管径 |
处理晶片 |
加热区 |
恒温区±2℃ |
外形尺寸mm |
功率 |
重量 |
||
℃/s |
(内)mm |
尺寸 in |
长度mm |
长度mm |
宽 |
深 |
高 |
千克 |
||||
rtp1100 |
1100℃ |
100 |
100 |
103 |
4′ |
200 |
150 |
800 |
540 |
750 |
5.0kw |
45 |
*800℃以上保温时间超过1分钟会影响降温速度,保温10分钟以上,需选配法兰水冷套。