真空磁控溅射镀膜机

用途特点：
适用于各种金属陶瓷等材料表面，镀制各种金属膜、装饰膜及超硬膜、多种功能的复合膜。

技术指标：
1、 工作室尺寸：φ1200×1500 mm 双室立式（不锈钢）
2、 极限真空：1.33×10-3帕（清洁空载）
3、 恢复真空时间：从大气抽至6.7×10-3帕≤15min
4、 磁控源功率：30kw（旋靶）
5、 弧源功率：2kva×10
6、 转动方式：公自转1-2自转，挂式
7、 烘烤电源功率：18kw
8、 总功率：120 kva
9、 总重量：约5吨
10、机械占地面积：6平方米

机组配制：
kt-600扩散泵1台、zjp-600罗茨泵1台、2x-70机械泵1台、2x-15机械泵1台。

电源配制：
1、 整机磁控控制柜1台。
2、 zxg160高频逆变弧源10台。
3、 btas偏压源1台50kva（两档转换）。