真空电阻镀膜机

用途特点：
本设备采用的是磁控溅射镀膜技术，它具有溅射速率高,基片升温低的特点，可在陶瓷、硅片表面镀制各种金属膜，是镀电阻膜的一种专用设备。

技术指标：
1、镀膜室尺寸：φ600×635（mm）卧式
2、极限真空：6.75×10-4帕（清洁空载）
3、恢复真空时间：从大气抽至6.75×10-3帕≤15分钟（清洁空载）
4、磁控源尺寸：305×127×13 功率: 10kw
5、工件转数：2-8r/min
6、总功率：20kw
7、总重量： 约0.8吨
9、机械占地面积：2平方米

机组配置：
kt-300扩散泵1台，zjp-300罗茨泵1台，2x-30机械泵1台。

电源配置：
整机中心磁控控制柜1台。