扫描电镜用金片，金靶高出金属靶材，LED用金颗粒，金蒸发料

磁控溅射靶材

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高纯单质金属溅射靶材（3n-6n）：铝靶al，铬靶cr，铜靶cu，镍靶ni，硅靶si，锗靶ge，铌靶nb，钛钯ti，铟靶in，银靶ag，锡靶sn，石墨靶c，钽靶ta，钼靶mo，金靶au，铪靶hf，锰靶mn，锆靶zr，镁靶mg，锌靶zn，铅靶pb，铱靶ir，钇靶y，铈靶ce，镧靶la，镱靶yb，钆靶gd，铂靶pt等高纯单质金属溅射靶材。

高密度陶瓷溅射靶材（3n-5n）：ito靶、azo靶，igzo靶，氧化镁靶mgo、氧化钇靶y2o3，氧化铁靶fe2o3,氧化镍靶ni2o3，氧化铬靶cr2o3、氧化锌靶zno、硫化锌靶zns、硫化镉靶cds，硫化钼靶mos2，二氧化硅靶sio2、一氧化硅靶sio、二氧化锆靶zro2、五氧化二铌靶nb2o5、二氧化钛靶tio2,二氧化铪靶hfo2，二硼化钛靶tib2，二硼化锆靶zrb2，三氧化钨靶wo3，三氧化二铝靶al2o3，五氧化二钽靶ta2o5、氟化镁靶mgf2、硒化锌靶znse、氮化铝靶aln，氮化硅靶si3n4，氮化硼靶bn，氮化钛靶tin，碳化硅靶sic，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.

备注：cnm生产的陶瓷靶材采用世界Zui先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶ni-v，镍铬合金靶ni-cr，钛铝合金靶ti-al，硅铝合金靶si-al，铜铟合金靶cu-in，铜镓合金靶cu-ga，铜铟镓合金靶cu-in –ga，铜铟镓硒靶cu-in –ga-se，不锈钢靶，锌铝合金靶zn-al，钨钛 w-ti，铁钴 fe-co，白铜靶等高纯合金溅射靶材。

备注：cnm生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。