磁控溅射靶材 (可为电子与半导体,平面显示行业,建筑与汽车玻璃行业,薄膜太阳能电池行业,磁存储行业,工具行业,装饰行业提供高品质靶材) 高纯单质金属溅射靶材(3n-6n):铝靶al,铬靶cr,铜靶cu,镍靶ni,硅靶si,锗靶ge,铌靶nb,钛钯ti,铟靶in,银靶ag,锡靶sn,石墨靶c,钽靶ta,钼靶mo,金靶au,铪靶hf,锰靶mn,锆靶zr,镁靶mg,锌靶zn,铅靶pb,铱靶ir,钇靶y,铈靶ce,镧靶la,镱靶yb,钆靶gd,铂靶pt等高纯单质金属溅射靶材。 高密度陶瓷溅射靶材(3n-5n):ito靶、azo靶,igzo靶,氧化镁靶mgo、氧化钇靶y2o3,氧化铁靶fe2o3,氧化镍靶ni2o3,氧化铬靶cr2o3、氧化锌靶zno、硫化锌靶zns、硫化镉靶cds,硫化钼靶mos2,二氧化硅靶sio2、一氧化硅靶sio、二氧化锆靶zro2、五氧化二铌靶nb2o5、二氧化钛靶tio2,二氧化铪靶hfo2,二硼化钛靶tib2,二硼化锆靶zrb2,三氧化钨靶wo3,三氧化二铝靶al2o3,五氧化二钽靶ta2o5、氟化镁靶mgf2、硒化锌靶znse、氮化铝靶aln,氮化硅靶si3n4,氮化硼靶bn,氮化钛靶tin,碳化硅靶sic,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材. 备注:cnm生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术,相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。 高纯合金溅射靶材:镍钒合金靶ni-v,镍铬合金靶ni-cr,钛铝合金靶ti-al,硅铝合金靶si-al,铜铟合金靶cu-in,铜镓合金靶cu-ga,铜铟镓合金靶cu-in –ga,铜铟镓硒靶cu-in –ga-se,不锈钢靶,锌铝合金靶zn-al,钨钛 w-ti,铁钴 fe-co,白铜靶等高纯合金溅射靶材。 备注:cnm生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。 |