应各种规格钛靶,钼靶,钨靶,镍靶,铌靶,锆靶,钽靶
更新时间:2013-06-07 09:38:21 信息编号:2147881 发布者IP:117.33.48.154 浏览:58次- 供应商
- 宝鸡市天瑞有色金属材料有限责任公司 商铺
- 认证
- 报价
- 人民币¥99.00元每公斤
- 所在地
- 陕西宝鸡高新大道50号财富大厦B座1507
- 联系电话
- 13992717731
- 联系人
- 杨宏超 请说明来自顺企网,优惠更多
产品详细介绍
溅射镀膜;蒸发镀膜;半导体;集成电路;平面显示器;信息存储;OLED;LED;LCD;PDP
靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”,
8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。
公司已通过了ISO9001-2000质量认证,取得了自营进出口权,产品远销美国、英国、法国、德国、韩国,日本、澳大利亚、印尼、等国!
本公司生产设备齐全,技术力量全面,加工质量可靠,产品交货及时,价格核算合理,欢迎广大用户洽谈业务,共同开拓进取。
祝商祺!欢迎来电咨询!!!
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