应各种规格钛靶，钼靶，钨靶，镍靶，铌靶，锆靶，钽靶
| 产品名称 |
应各种规格钛靶，钼靶，钨靶，镍靶，铌靶，锆靶，钽靶 |
| 公司名称 |
宝鸡市天瑞有色金属材料有限责任公司 |
| 价格 |
99.00/公斤 |
| 规格参数 |
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| 公司地址 |
陕西宝鸡高新大道50号财富大厦B座1507 |
| 联系电话 |
13992717731 |
产品详情
溅射镀膜；蒸发镀膜；半导体；集成电路；平面显示器；信息存储；OLED;LED;LCD;PDP
靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。
公司已通过了ISO9001-2000质量认证，取得了自营进出口权，产品远销美国、英国、法国、德国、韩国，日本、澳大利亚、印尼、等国！
本公司生产设备齐全，技术力量全面，加工质量可靠，产品交货及时，价格核算合理，欢迎广大用户洽谈业务，共同开拓进取。
祝商祺！欢迎来电咨询！！！
溅射镀膜；蒸发镀膜；半导体；集成电路；平面显示器；信息存储；OLED;LED;LCD;PDP