四氟化碳 蚀刻气体 多元气体 校正气 标准气 混合气
更新时间:2020-02-16 17:26:39 信息编号:1830695 发布者IP:115.195.36.193 浏览:84次- 供应商
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产品详细介绍
1.四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中用量Zui大的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。
CF4具有较高的稳定性,属于完全不燃性气体,常温下不与酸、碱及氧化剂反应,900℃以下不与Cu、Ni、W、Mo等过渡金属反应,1000℃不与碳、氢及CH4反应。室温下可与液氨-金属钠试剂反应,高温下CF4可与碱金属、碱土金属及SiO2反应,生成相应的氟化物。CF4在800℃下开始分解,CF4在电弧作用下可与CO和CO2反应生成COF2,有人还试图在碳弧温度中使CF4聚合来合成其他碳氟化合物。