四氟化碳 蚀刻气体 多元气体 校正气 标准气 混合气

1.四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量Zui大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。

         CF4具有较高的稳定性，属于完全不燃性气体，常温下不与酸、碱及氧化剂反应，900℃以下不与Cu、Ni、W、Mo等过渡金属反应，1000℃不与碳、氢及CH4反应。室温下可与液氨-金属钠试剂反应，高温下CF4可与碱金属、碱土金属及SiO2反应，生成相应的氟化物。CF4在800℃下开始分解，CF4在电弧作用下可与CO和CO2反应生成COF2，有人还试图在碳弧温度中使CF4聚合来合成其他碳氟化合物。