中频磁控溅射电源

中频磁控溅射电源(MF)

1．简介：

中频磁控溅射电源工作于二级高频变换模式，交流正弦输出，输出频率设为典型的中频，中频电源以两个溅射靶作为负载，两个靶交替工作，溅射靶一个溅射周期内一半以上的时间为反向电压截止溅射，使靶材表面积累电荷有得到充分泄放时，有利于抑制靶材弧光放电及表面中毒，特别适用于反应膜层环境使用。

2．产品特点：

（1）适用于中频孪生靶磁控溅射金属或非金属材料；特别适用于磁控反应溅射环境使用。

（2）人机交互操作界面；单片机智能控制；RS485通信；非晶逆变；模块IGBT设计。

（3）自定义恒流、恒压、恒功率控制；输出电压、输出电流宽范围调节。

（4）完善的保护功能；设有过流、过压、过热、短路等多重保护。

（5）内置电子电抗；自动匹配负载；输出频率2×40KHz。

（6）自动抑制靶材弧光放电及靶材表面中毒。

（7）镀膜工艺重复性好；提高成膜速度。

（8）高频交流输出。

（9）单片机C语言及汇编语言编程，键盘矩阵并行数据传输，瞬态响应快，误码率低，部分性能优于组态触摸屏/PLC。

3．技术参数【注：ZP-60KW为(主机+从机)2单元组合】