PECVD-350双室等离子增强化学气相沉积设

pecvd-350型超高真空双室多功能等离子增强化学气相沉积设备主要由全真空专用不锈钢腔体、样品传递机构、真空系统、生长机体载体及温控系统、独立排气和生长压力调节系统、尾气处理、冷却循环水辅助设备等组成。应用于制作氧化锌纳米线、太阳能薄膜电池、sio2钝化膜、si3n4、非晶si：h、多晶si、sic、w、ti-si、gaas、gasb等介电、半导体及金属膜等。

技术参数：

主、次沉积室：φ350mm×h400mm,双室立式前开门结构，旁抽气系统，双层水冷

基片台尺寸：φ125mm

基片台运动：转速0-20rpm、磁流体密封

基片加热：室温至600℃、900℃可调可控

有机源、固体源：室温至250℃、500℃可调可控

电源：射频电源

真空系统：分子泵高真空系统（共用）, 从大气抽到10-3pa小于或等于20分钟

极限真空：8.0×10-5pa

控制系统：自动抽真空

报警及保护：对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警及相应保护措施

选购件：冷却循环水机