CVD金刚石生长设备中碳

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zt－200热丝cvd金刚石设备技术指标

设备名称	热丝cvd金刚石设备
设备型号	zt-200
生长膜种类	金刚石厚膜
真空室尺寸	φ650mm×h550mm
真空室结构	立式前开门，双层水冷
基片台尺寸	φ200mm
基片台均匀区尺寸	120mm×120mm
基片台升降范围	可调，转速可调0-3 rpm
极限真空	1.3×10-3pa
工作真空	～200 torr
真空系统组成	扩散泵+机械泵+维持泵
真空测量方式	数显复合真空计、薄膜压力计
气体控制方式	3路气体质量流量计及显示系统
保压	自1.3x10-3pa，24h压降≤20pa
反应气体	ch4（4e），h2（4e或5e）
设备控制方式	手动或自动
报警系统	对泵、电极缺水、断水等异常情况进行报警
电源	30kw电源一套
电源型式	热丝直流电源
设备重量	～1500kg
设备占地面积	3000mm×2000mm
设备环境要求	供电：三相五线 380v，供电总功率≥35kw 冷却水系统：冷却循环水机，供水水温：20-30℃，自动控制环境温度：≤28℃ 车间防尘，洁净

提供cvd金刚石成套设备及厚膜工艺。

该设备经5年实际生产应用，数次改进，稳定可靠，生长工艺成熟，产品已经批量生产和销售，产品质量获得用户好评。

同时可以提供所有配套设备，实现一次安装到位，用Zui短时间调试成功。

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