上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 400
更新时间:2023-11-09 15:23:44 信息编号:3731128 发布者IP:113.90.157.200 浏览:162次- 供应商
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- 资质核验:已通过营业执照认证入驻顺企:第10年主体名称:伯东企业(上海)有限公司
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- 品牌
- KRI
- 型号
- eH 400
- 产地
- 美国
- 关键词
- 上海伯东代理,美国原装进口, KRI 霍尔离子源, eH 400
- 所在地
- ec@hakuto-vacuum.cn
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产品详细介绍
美国 KRI 霍尔离子源 eH 400
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH
400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH
400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH 400 特性
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, *大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统
• 等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:
型号 |
eH 400 / eH 400 LEHO |
供电 |
DC magnetic confinement |
- 电压 |
40-300 V VDC |
- 离子源直径 |
~ 4 cm |
- 阳极结构 |
模块化 |
电源控制 |
eHx-3005A |
配置 |
- |
- 阴极中和器 |
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode |
- 离子束发散角度 |
> 45° (hwhm) |
- 阳极 |
标准或 Grooved |
- 水冷 |
前板水冷 |
- 底座 |
移动或快接法兰 |
- 高度 |
3.0' |
- 直径 |
3.7' |
- 加工材料 |
金属 |
- 工艺气体 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
- 安装距离 |
6-30” |
- 自动控制 |
控制4种气体 |
* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder
KRI 霍尔离子源 eH 400 应用领域:
• 离子辅助镀膜 IAD
• 预清洁 Load lock preclean
• In-situ preclean
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors
• Polymer Substrates
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40
年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域,
上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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上海伯东: 罗女士
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