抛光液厂家专业生产 硅单晶片抛光液 研磨液
硅单晶片抛光液 研磨液即纳米胶态氧化硅抛光液是一种应用于化学机械研磨(cmp)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。
产品介绍:
型号 |
平均粒径(nm) |
sio2含量(%) |
ph值 |
比重 |
密度(g/ml) |
稀释比例 |
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80纳米 |
80 |
40 |
10.2 |
1.30 |
1. 15±0.05 |
<1:1 |
|
50纳米 |
40.0 |
40 |
10.2 |
1.30 |
1. 15±0.05 |
<1:1 |
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包装规格:20kg/桶。
储存方式:存放温度为5℃-35℃,避免阳光照射;
保质期限:碱性抛光液保质期为二年,建议在一年内使用。
应用领域:
1、金属类材料:如不锈钢、铝合金、锌件抛光;
2、led蓝宝石衬底,晶体、宝石件抛光;
3、光学镜片、光学玻璃、石英件抛光;
4、磁头、硬盘件抛光;
5、光纤以及光伏抛光。
产品大图:
老客户订单装柜图:
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本产品的产品规格是20KGS/桶,执行标准是GM,主要用途是铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光,CAS是,保质期限是碱性抛光液保质期为二年,储存方式是存放温度为5℃-35℃,避免阳光照射,特点是环保