MOS-P P沟道达林顿管 场效应管

工作原理

　  场效应管工作原理用一句话说，就是“漏极-源极间流经沟道的id，用以门极与沟道间的pn结形成的反偏的门极电压控制id”。更正确地说，id流经通路的宽度，即沟道截面积，它是由pn结反偏的变化，产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在vgs=0的非饱和区域，表示的过渡层的扩展因为不很大，根据漏极-源极间所加vds的电场，源极区域的某些电子被漏极拉去，即从漏极向源极有电流id流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型，id饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡，并不是电流被切断。 

      在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动，在理想状态下几乎具有绝缘特性，通常电流也难流动。但是此时漏极-源极间的电场，实际上是两个过渡层接触漏极与门极下部附近，由于漂移电场拉去的高速电子通过过渡层。因漂移电场的强度几乎不变产生id的饱和现象。其次，vgs向负的方向变化，让vgs=vgs(off)，此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。而且vds的电场大部分加到过渡层上，将电子拉向漂移方向的电场，只有靠近源极的很短部分，这更使电流不能流通。

本产品的品牌是国产，型号是MOS-PLY5801，种类是结型(JFET)，沟道类型是P沟道，导电方式是增强型，用途是S/开关，封装外形是CHIP/小型片状，材料是GE-P-FET锗P沟道，Zui大漏极电流是/，开启电压是/，夹断电压是/，低频噪声系数是/，极间电容是/，Zui大耗散功率是/