准分子紫外光精密清洗机

一、 紫外光清洗的原理和特点：
  1、光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”， 是一种“干洗”方式，可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。
  2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。
  3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。
  4、保证产品的高可靠性和高成品率。
  5、产品表面清洗处理的均匀度一致。

 

  1、高效快速清洗

    有为172nm准分子紫外灯能发出窄谱 (10nm)的单色真空紫外光，具有极快的反应速率，清洗速率比用低压汞灯快10倍以上，对玻璃的清洗效率，是目前清洗制程的主流。

  2、低温加工过程

    由于不产生红外谱线，且因加工时间极短，所以对被加工对象几乎不产生加热效应。

  3、节能环保

   没有自吸收现象，电光转化效率高达40%，因而产生很高的光强只需消耗很低的电能，且没有使用汞灯所带来的废旧回收处理问题。

  4、瞬间开启和熄灭

    可根据需要发射所需光能，且能随时瞬间开启熄灭，不需要用快门。

  5、安装角度灵活方便

    有为光子发生器可根据需要加工不同空间角度的被加工物，很容易整合进入现有的生产线，安装简便、替换性好。

 

    主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法Zui为合适。

    主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。