钙钛矿镀膜设备多少钱 钙钛矿镀膜设备 沈阳鹏程

产品详情

300C有机无机联合蒸发

主要用途： 　　

用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。 　　

系统组成: 　　

该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、        烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。 　　

技术指标： 　　

极限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ，钙钛矿镀膜设备， 　　

蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。 　

蒸发温度：加热温度：室温～1800℃； 　　

蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，钙钛矿镀膜设备销售，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）； 　　工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分        钟，转速可调；样品托盘可摆角，钙钛矿镀膜设备多少钱，角度在0～30度可调； 　　

烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃） 　　

电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对 　　

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?

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多源蒸发系统介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业供应电阻热蒸发镀膜产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

主要用途：　　

系统主要用来生长EL OEL分子有机电致发光器件薄膜的研究工作　　

系统组成:　　

该类设备为双室带手套箱结构的有机、无机、多源有机、无机气相分子沉积设备，采用直线式结构，由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个有机材料生长室和一个手套箱组成，金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接，样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。可选手套箱。　　

技术指标：　　

有机蒸发室：经烘烤6小时左右，并连续抽气真空优于8.0×10 Pa　　无机蒸发室：经烘烤6小时左右，并连续抽气真空优于6.6×10 Pa　　蒸发室：方形真空室，尺寸：450×400×350mm　　恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa（短时间暴露大气并充干燥氮气后开始抽气）　　样品尺寸：50×50mm 或100×100mm　　设有掩膜板和掩膜库金属材料/氧化物生长室可放置1-4个热阻蒸发舟和一个掩膜库有机材料生长室可放置1-8个高温或低温束源炉石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统，可选手套箱。

有机热蒸发镀膜机介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业生产、销售电阻热蒸发镀膜产品，我们公司坚持用户为上帝，想用户之所想，急用户之所急，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以质量求生存，钙钛矿镀膜设备报价，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创辉煌。

真空：极限真空6*10 -5 帕

工作真空6*10 -4 帕

恢复工作真空时间：连接手套箱≤10分钟

不连接手套箱，充干燥氮气≤30分钟

本套设备配有8个有机源及2个金属源

金属蒸发源和有机蒸发源可按客户要求配置

膜厚探头及膜厚仪有国产或者进口可选

金属蒸发源配有1000w电源

有机蒸发源配有可控温电源，控温精度±1℃