镍粒 4N高纯电解镍 高纯镍块 高纯镍 宏钜金属

产品详情

名 称：铜

符 号：Cu

原子量：63.55

熔 点：1083℃

沸 点：2562℃  

密 度：8.94g/cm3    

高纯铜，通常指4N以上的金属铜，通常把6N以上的铜成为超高纯铜，

高纯铜的制备方法主要有电解精炼法，区熔精炼法以及阴离子交换法等。我公司可以提供4N-6N的高纯铜，可加工成靶材，颗粒，棒，箔，片等形状，广泛应用于高纯度合金熔炼，晶体生长，真空镀膜等领域。

高纯铜  Cu  4N5-6N  靶材

高纯铜  Cu  3N  粉末  5um-200目

高纯铜  Cu  4N-6N  棒状  φ3*3mm 6*6mm 可定制

高纯铜  Cu  4N-5N  丝状  φ0.1-5mm

高纯铜  Cu  3N5 4N 片状  0.03-10mm    

铜基合金是非常重要的合金材料，其中典型的有铜jia合金，铜锌合金，铜锡合金，铜铟硒jia合金等。常规材料如下：

另外我们还可以提供高纯硫化亚铜粉末，硫化铜粉末，硒化铜等。铜铟jia硒，铜锌合金等

名 称：钛

符 号：Ti

原子量：47.88

熔 点：1668℃

沸 点：3277℃

密 度：4.506g/cm3    

   高纯钛是指纯度在4N以上的金属钛，高纯镍，主要制备方法有：碘化法，熔盐电解法，电子束熔炼法，电子束区熔法等。

   高纯钛主要用于半导体材料，溅射靶材，合金材料及超高真空装置中的吸气材料。

我公司可提供4N5，5N高纯钛，采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒，用于高纯度合金熔炼，蒸发镀膜等领域。

   高纯钛靶材    高纯钛粉末    高纯钛颗粒 高纯钛棒状    高纯钛丝状    高纯钛片状

   我们可提供钛氧化物，氮化物及其他化合物靶材，粉末等。

溅射靶材：二氧化钛靶材，氮化钛靶材，钛酸锶晶体靶材，钛酸钡靶材等

光学镀膜材料：二氧化钛颗粒，五氧化三钛晶体颗粒等化合物及合金氧化钛TiO2

氮化钛TiN    硼化钛TiB2    钛酸锶SrTiO3    钛酸钡BaTiO3    钛铝合金Ti-Al    钛硅合金    钛钨合金

名  称：金

符  号：Au

原子量：196.97

熔  点：1064.2℃

沸  点：2808℃                      

密  度：19.32g/cm3

高纯金在电子行业中有着广泛应用。我公司可以供高纯金99.99%-99.999%，广泛应用于蒸发镀膜，磁控溅射等方面。主要有靶材，颗粒，进口高纯镍颗粒4N5镍颗粒，丝状，片状等形态，99.999%高纯镍颗粒，并可提供残靶，镍粒 4N高纯电解镍 高纯镍块，余料回收业务。

高纯金  Au  4N-5N  靶材  根据要求定制  可回收

高纯金  Au  4N-5N  粉末 100目，200目

高纯金  Au  4N-5N  棒状  φ3*3mm 可定制

高纯金  Au  4N  丝状  φ0.01-5mm

高纯金  Au  4N片状  0.03-10mm

金合金如金锗合金，金锗镍合金，金铍合金等广泛应用于电子，LED行业。

我公司可以提供产品如下：合金及化合物金锗合金（AuGe12） 金锗镍合金（AuGe11.4Ni5），金锡合金（AuSn20），金银合金，金钯合金，金铍合金等