昆山光刻版

产品名称 昆山光刻版
公司名称 苏州微麦光电有限公司
价格 面议
规格参数
公司地址 苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室
联系电话 17710798515

产品详情

光刻板业内又称光掩模版、掩膜版,光刻版,光罩,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶。(感光胶又称光致抗蚀剂,是利用光化学反应进行图形转移的媒体性精细化学品,根据不同的用途性能等有多种型号,目前光掩模版大多数都是用的正性胶。光刻正性胶在经激光照射后,曝光区的邻重氮萘醌化合物发生光解反应重排成羧酸,使胶膜加速溶于稀碱水溶液。)把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,最后应用于光蚀刻。

公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!

刻蚀或离子注入完成后,将进行光刻的最后一步,即将光刻胶去除,以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常,半导体器件制造整个过程中,会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻,而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。


掩膜版:通俗点理解,相当于过去用胶片冲洗照片时的底片。底片如果精度不够,是洗不出来高精度照片的。光刻机施工前,要根据设计好的芯片电路图制作掩膜板。掩膜板材质是石英玻璃,玻璃上有金属铬和感光胶。通过激光在金属铬上绘制电路图。精度要求非常高。

  透镜:用透镜的光学原理,将掩膜版上的电路图按比例缩小,再用光源映射的硅片上。光在多次投射中会产生光学误差。要控制这个误差。精度要求很高。

  就是测量台移动的控制器,也是纳米级精度,要求超高。


昆山光刻版由苏州微麦光电有限公司提供。昆山光刻版是苏州微麦光电有限公司(www.szphotomask.com)今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:叶佳。