DOW BCB4026-46 负性光敏光刻胶 抗腐蚀涂层材料

产品详情

4026-46

4026-46

小包装量

1

是否现货

是

加工定制

是

功能

高深宽比，耐刻蚀，耐高温，化学稳定性强

厚度范围

0.1~200UM

单位

ml

优点

高深宽比，垂直性好

型号

BCB4000系列

类型

半导体材料

包装

瓶装

售卖地区

全国

品质保障

质量过硬

数量

999

产品类型

半导体材料

运输方式

汽运物流

PMMA(polymethyl methacrylate)是一种非常适合许多成像和非成像微电子应用程序的聚合物材料。通常用于电子束工艺曝光，如T-gate制造。还用于临时晶片接合工艺如晶片减薄，用作保护层和临时粘合剂。

PMMA光刻胶是PMMA聚合物被溶解在特定的分子量溶剂中，如苯甲醚（安全的溶剂），然后过滤。传统曝光，直接写曝光或X-射线曝光使聚合物的断链，从而在光刻胶的曝光和未曝光区域之间产生溶解度差异，实现非常高分辨率的图像。

PMMA的分类：

1）PMMA 495 A系列

2）PMMA 495 C系列

3）PMMA 950 A系列

4）PMMA 950 C系列

PMMA特性：

1）溶剂：苯甲醚（A）和氯苯（C）

2）非常适合于电子束光刻和X射线曝光

3）高分辨率：<0.1um，PMMA 950适用于高分辨率的应用，PMMA 495则相对较低

4）广范围分子量和粘度

应用：电子束光刻、多层T-Gate剥离、晶圆减薄等。

相关溶液：

1）显影液：MIBK:IPA

2）去胶剂：Remover PG

3）稀释剂：A Thinner