| 产品名称 | 光刻胶及聚酰亚胺KMP C7500 I线光刻胶 |
|---|---|
| 公司名称 | 厦门良厦贸易有限公司 |
| 价格 | .00/件 |
| 规格参数 | |
| 公司地址 | 中国（福建）自由贸易试验区厦门片区中埔社10190号（注册地址） |
| 联系电话 | 0592-6013840 15396145919 |
KMP C7500系列光刻胶是高分辨I线光刻胶，其采用了独特的树脂结构及具有高分辨性能的感光剂，在0.75um膜厚下可以实现0.35um的分辨率。该系列光刻胶具有不同的粘度，其膜厚范围为0.5-2.0um，同时具有感光速度快、分辨率高及工艺窗口大等优点，适用于集成电路制造工艺中对分辨率要求较高的i线层，已经广泛商用于国内先进集成电路制造业企业。
KMP C6111系列光刻胶是正性厚膜I线光刻胶，主要应用于IC制程中光刻胶膜厚5um时的PAD金属钝化层和DNW的深肼离子注入层。该系列光刻胶工艺窗口大，抗蚀刻能力，抗离子注入能力和可去除性能都符合先进集成电路的需求，已广泛用于先进集成电路制造业企业。
KMP C7300系列光刻胶是高分辨I线光刻胶，在1.0um膜厚下可以实现0.5um的分辨率，该系列光刻胶具有不同粘度的产品，其膜厚范围为0.75-2.5um，同时具有感光速度快、分辨率高及工艺窗口大等优点，广泛用于先进集成电路制造业企业。