离子刻蚀系列RIE（退膜机）

产品详情

      反应离子刻蚀机：采用公司专利的离子束清洗源和独有的放电技术制造出的专利产品。其原理是将通入刻蚀室的工艺气体分子分解电离，产生等离子体。一方面由等离子体中的部分活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应，另一方面通过脉冲/射频电源，使等离子体中的正离子对被刻蚀材料表面进行物理轰击，以物理、化学相结合的方法达到对材料表面清洁、改性、刻蚀的目的。

● 可定制刻蚀范围φ100-800mm, 支持单源或多源组合；

● 刻蚀温度低于80℃，很好的兼容热敏感材料；

● 自由调节的刻蚀距离及速率，满足敏感材料应用需求。

● 等离子体密度高，刻蚀清洗效果好，具有良好的均匀性；

● 采用通用接口尺寸，模块化设计、互换性强，维护方便；

● 交钥匙设备，纯源公司提供整套解决方案，设备交接后即可投产。