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真空溅射镀膜

1、真空溅射镀膜的定义

给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。

2、磁控溅射镀膜的定义

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与ya原子发生碰撞，电离出大量的ya离子和电子，电子飞向基片，ya离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。

3、辉光放电的定义

辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。

真空电镀加工的工艺流程

湿法工艺：1.化学浸镀、2.电镀、3.喷导电涂料

干法工艺：1.真空蒸镀、2.阴极溅镀、3.离子镀、4.烫金、5.熔融喷镀

真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。

常用的金属是铝等低熔点金属。

加热金属的方法：

有利用电阻产生的热能，耳机配件真空电镀厂家，也有利用电子束的。

镀低折射率膜层，将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，耳机配件真空电镀加工厂，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层，此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层；

镀高折射率膜层，塘厦耳机配件真空电镀，将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室，耳机配件真空电镀，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的高折射率膜层，所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层，此高低折射膜层的工艺气体为Ar、N2、O2中的至少一种，其中Ar气体流量为10-1000sccm，N2气体流量为10-1000sccm，O2气体流量为10-1000sccm；