品牌	昆山立特纳米	型号	-
用途	用于电学膜、光学膜	别名	电子束蒸发镀膜机

用途：多弧离子镀膜始于上个世纪70年代，采用真空环境下引火器引燃弧光放电源（阴极）与真空室（阳极）之间形成自持弧光放电，使从阴极弧光辉点射出的阴极物质离子形成空间电荷层，产生强电场，使阴极表面上功函数小的开始发射电子；电流局部集中产生的焦耳热使阴极材料局部地爆发性地等离子化，发射电子和离子，同时也放出熔融的阴极材料，在工件偏压的作用下与反应器件化合而沉积在工件表面上，从而在工件上形成被镀的膜。多孤离子镀膜机离化率高沉积速度高，适用于镀制装饰膜和超硬耐磨膜。多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，结合磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀单层膜和各种复合膜层。如：金色的氮化钛，黑色的碳化钛，七彩的氮氧化钛等，亦可镀防腐蚀膜（如：al、cr不锈钢及tin等）。

基材：不锈钢,锌合金,塑料，玻璃，陶瓷

应用：手机外壳，mp3外壳，数码相机外壳，表壳、表带、眼睛架、健身球、首饰、灯具、餐具、工艺美术品上，工具、刀具、模具等

基本参数:

1、极限真空：3×10^-4pa

2、恢复真空时间：大气至4×10^-3pa≤15min

3、tk-500k扩散泵，2x-70机械泵

4、真空室内腔尺寸：φ700×850mm

5、真空系统操作：半自动/手动

6、永磁电子枪：270度偏转，功率6kw、单电源、双枪双扫描、双束流、阳极电压6kv、8kv可调

7、工件转动：采用磁传动装置