制造ZC-500型蒸发磁控溅射双用镀膜机

主要应用于大专院校、科研机构及企业实验室进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制和操作培训。

1、外型结构：采用立式单开门开合式结构，真空内腔尺寸ø500x600mm室体采用优质不锈钢制造。室体外焊不锈钢冷却方管。

2、结构功能：镀膜方式为磁控、蒸发两种。磁控采用2条平面靶，可在一次镀膜过程先后镀二种不同材料膜系。靶材可选用铝、铜、镍、钛、铬、银、金等各种金属。蒸发采用钨丝或钼舟加热子。配备一套公转架，转架采用不锈钢制成、内外圈挂镀件设计，采用齿轮传动，无级调速。

3、真空测量控制采用真空控制仪，如需镀反应膜需加配质量流量计（例如在真空室内充适量的氧气便可镀成氧化膜）

4、真空机组：其中包括a:k-300凸腔高真空油扩散泵一台采用不锈钢制成（功率3kw）；b：2x-30型旋片泵一台（功率4kw），空载抽真空周期（空载无加热状态）从大气常压到6x10-2帕不大于5分钟，极限真空度为5x10-3帕。

5、电控功能：

a：配20kw磁控靶电源及5kw蒸发供电系统，蒸发采用电子调压器模式。

b：备有自动/手动双控功能。

c:配plc程序控制器。

d：配一台（北京清华大学产）压强控制真空计。

6、可选配膜厚控制仪用于镀半透产品，当膜层达到所设定的厚度时即自动切断靶电源。

7、总功率约30kw，占地面积约1.2米*1.5米

8、设备报价：13万（出厂价，不含税）。设备包含铝靶、不锈钢靶各一条，膜厚控制仪需另购。

9、设备实行一年三包期。a：包安装调试b：包培训操作人员c：包设备在正常情况下使用所出现故障的维修工作，其中包括负责联系及协助生产厂家对外购配套机电设备履行三包责任。（如属于用户不当使用或因对镀膜机使

用认知的专业知识不足而引起的问题，不属于机器故障的，我厂派人前往解决的差旅费用由用户负责）

10、本资料图片仅供参考，具体以实物为准。