（中频）多弧磁控溅射镀膜设备

多弧磁控（中频）溅射镀膜设备
采用非平衡磁控溅射的磁场结构 ,平面磁控对靶闭合磁场结构设计
溅射沉积化合物薄膜时；采用中频电源。在提高溅射率的同时，有效地避免了“靶中毒”“打火”及“阳极消失”现象的发生。大幅度提高离化率，显著提高沉积积速率。