订购真空镀膜设备Ⅰ()

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模块化设计样品前处理工艺（可施行清洗、刻蚀或注入）多阴极磁控溅射 rf/mf/dc 聚焦共溅射/对靶溅射旋转基片架（可施加偏压）基片加热装置样品在线送取（全自动装载）真空室具备多角度观察窗适用多种材料沉积

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