镀膜设备Ⅱ

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模块化设计/具有很强的扩展性；

开放式结构/调整或维护简易方便；

薄膜研究平台/不同模块组合实现不同工艺；

性能可靠/成熟单元整机性能得以保证。

聚焦共磁控溅射沉积薄膜;

pecvd沉积薄膜

镀制多层薄膜

基片加温、rf偏压、旋转

极限真空：6.67×10-5pa

所属分类：中国机械设备网 / 其他涂装设备
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