霍尔型等离子体源 11 11

霍尔型离子源离子能量低不损伤基片或薄膜结构；束流大有效提高离化率，增强离子束辅助效果。广泛应用于光学镀膜、溅射镀膜、阴极弧离子镀等真空镀膜过程中的离子束辅助镀膜工艺。产品设计先进，结构简单实用，易于安装维护，特别是解决了霍尔离子源的污染、离子束发射和等离子体中性等问题，成为高端镀膜机的配套单元。镨玛科技是以留学人员为技术骨干的高新技术企业，以从事镀膜工艺和薄膜结构与性能的研究人员为基础，针对国内刀具涂层制造技术现状，深入研究各种镀膜工艺，在磁控溅射、离子辅助沉积等相关工艺开发领域取得突破，制造出国际刀具镀膜设备，使用户能够以实用价格享用国际水准的设备。
镨玛科技提供高性能pvd涂层:tin、altin、ticn、alcrn、crn、wc:dlc，涂层硬度高、耐磨抗氧化、摩擦系数低，延长刀具的使用寿命，提高产品加工质量。