CDA1000 蒸发磁控复合镀膜机

型号规格

cda1000————cda2200zc

真空室直径

ф1000mm————2200mm

真空室高度

1500mm————2500mm

真空泵组

扩散泵，罗茨泵，旋片泵

真空测量

多路测量复合真空计范围105---10-5pa

控制方式

触摸手动或全自动

配气系统

高灵敏度mfc，多路独立控制，气管室体内部特殊

设计布置

加热系统

pid智能控温，温度均匀

工件系统

6轴—16轴变频无级调速行星式公自转

工件Zui大尺寸

ф320mm——580mm

极限真空

1×10-3pa

冷却系统

压力流量同步测量控制

功率消耗

20kw———90kw

cda-zc系列真空磁控溅射+蒸发镀膜机型号及技术参数

性能型号

cda-zc900

cda-zc1000

cda-zc1200

cda-zc1400

cda-zc1500

cda-zc1800

真空室结构

立式双开门、立式单门、卧式单开门、后置真空获得系统

电源类型

电阻蒸发电源、离子轰击电源、灯丝电源、脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁控电源

镀膜室尺寸

ф900×h1100mm

ф1000×h1200mm

ф1200×h1500mm

ф1400×h1800mm

ф1500×h1900mm

ф1800×h2000mm

镀膜室材质

优质不锈钢材质

极限真空

8.0×10-4pa

8.0×10-4pa

8.0×10-4pa

8.0×10-4pa

8.0×10-4pa

8.0×10-4pa

抽气时间
(空载）

从大气抽至5.0×10-2pa≤8分钟

真空获得系统

扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵（型号可根据客户的需求进行配置）

镀膜方式

蒸发镀膜+磁控溅射镀膜

镀膜种类

金属膜、半透明膜、不导电膜、电磁屏蔽膜、介质膜等

磁控靶类型

矩形磁控靶、圆柱形磁控靶、孪生磁控对靶

磁控偏压电源功率及靶数量

根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配

工件回转Zui大有限直径

6轴ф260mm

6轴ф280mm
8轴ф260mm

6轴ф360mm
8轴ф280mm

6轴ф420mm
8轴ф350mm

6轴ф460mm
8轴ф380mm

6轴ф560mm
8轴ф460mm

蒸发电极

标配2对

蒸发功率

15kw

15kw

20kw

25kw

30kw

35kw

整机总功率

50kw

50kw

65kw

85kw

100kw

135kw

工艺气体

2路或3路或4路工艺气体流量控制及显示系统选配自动加气系统

冷却方式

水循环冷却方式，另需配冷却水塔或工业冷水机。（客户提供）

工件转架
转动方式

行星式公自转、变频调速（可控可调）

控制方式

手动/自动一体化方式、触摸屏操作、plc或计算机控制

报警及保护

对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施。

设备占地面积

w3m×l3m

w3m×l3m

w3.5m×l4m

w5m×l5m

w6m×l6m

w6m×l8m

其他技术参数

水压≥0.2mpa、水温≤25℃、气压0.5-0.8mpa

备注

镀膜设备的具体配置可根据客户的镀膜产品工艺要求进行设计。