高纯钼颗粒9999钼溅射靶半导体材料
更新时间:2019-06-05 18:36:55 信息编号:5806060 发布者IP:101.23.109.7 浏览:84次- 供应商
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- 报价
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- 品牌
- 环球金鼎
- 型号
- 9999
- 产地
- 北京
- 关键词
- 高纯钼颗粒
- 所在地
- 北京市海淀区安宁庄东路23号2幢412室
- 手机号
- 13269638621
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产品详细介绍
高纯钼颗粒9999钼溅射靶半导体材料
钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜,这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品,如目前广泛应用的TFT-LCD、等离子显示屏、无激光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。
在电子行业中,钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料,这些都是基于钼的高熔点。高电导率,较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。以前,平面显示器的配线材料主要是铬,但随着平面显示器的大型化和高精度化,越来越需要比阻抗小的材料,另外,环保也是必须考虑的问题,而钼具有比阻抗和膜应力仅为铬的1/2的优势,而且不存在环境污染问题,因此成为了平面显示器溅射靶材的材料之一,此外,钼使用在LCD的元器件中,可使液晶显示器在亮度、对比度、色彩以及寿命方面的性能大大提升。
高纯度是对钼溅射靶材的一个基本特性要求,钼靶材的纯度越高,溅射薄膜的性能越好,一般钼溅射靶材的纯度至少需要达到99.95%,但随着LCE行业玻璃基板尺寸的不断提高,要求配线的长度延长、线宽变细,为了保证薄膜的均匀性以及布线的质量,对钼溅射靶材纯度的要求也相应提高,因此根据溅射的玻璃基板的尺寸以及使用环境,钼溅射靶材的纯度要求在99.99%-99.999%甚至更高,钼溅射靶材作为溅射中的阴极源,固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。
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