二氧化铪颗粒 HfO2光学镀膜材料 99.99

更新时间:2018-06-26 10:27:39 信息编号:5373993
二氧化铪颗粒 HfO2光学镀膜材料 99.99
供应商:
蒂姆(北京)新材料科技有限公司 商铺
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报价:
人民币¥1000.00元每千克
品牌
蒂姆新材料
型号
DM2017111403
产地
北京
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北京市丰台区南四环西路128号院4号楼12层1515-1516(园区)
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产品详细介绍

二氧化铪(HfO₂)是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料,近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注,由于它最可能替代目前硅基集成电路的核心器件金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的栅极绝缘层二氧化硅(SiO₂),以解决目前MOSFET中传统SiO₂/Si结构的发展的尺寸极限问题。

一、物理性质

化学符号:HfO2

外      观:白色

分 子 量:210.49

密      度:9.7g/cm³

熔      点:2500℃

折 射 率(波长/nm):1.9-2.1(300)

                   1.84-2.0(2500)

沸      点:5400℃

线膨胀系数:5.8×10-6/℃(250-1300)

10¯4真空下蒸发温度为:2500℃

蒸发方式:电子束

透明波段/nm:235-2500

介电常数:20.5-23

比      容:0.05μF/cm2

电容温度系数TCC:(1.25~2.50)×10-4/℃

性     能:适于电子枪蒸发,成膜致密稳定。紫外波段的优良材料。不溶于水,耐化学性质,但在高温下能与氢氧化物起反应,膜坚硬;

应     用:主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近红外多层膜。

         HfO2薄膜是一种绝缘氧化物,即可做薄膜电阻,又可做介子薄膜,一般用溅射法沉积制备。

二、主要产品

1.二氧化铪 颗粒 99.99%

常规尺寸:1-3mm;3-5mm;尺寸可定做

应用:蒸发镀膜,红外薄膜


2.二氧化铪 靶材 99.99%

常规尺寸:φ25.4*3mm;φ50*4mm;φ80*5mm;尺寸可定做

应用:磁控溅射镀膜,红外镀膜


3.二氧化铪 圆片 99.99%

常规尺寸:φ10*10mm;φ25*10mm;φ30*3mm;尺寸可定做

应用:蒸发镀膜,红外镀膜等


MgO,ITO,AZO等陶瓷靶材我司还可提供靶材绑定服务,采用全铟焊焊接。

更多产品可咨询客服人员 010-56073481。


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