雷士超声设备清洗多晶硅碱迹高频超声波振板

雷士超声设备清洗多晶硅碱迹高频超声波振板

1.    清洗对象  多晶硅

2.    去除物   碱迹、 酸迹 、灰尘

3.    使用溶剂  一般为水剂+弱碱性清洗液

4.    选频/振荡频率   采用28KHZ  功率4KW

5.    清洗槽内径 1200*400*300mm

6.    配件  清洗篮 

7. 清洗方法： 

1．清洗槽内加入适量水溶液，应能保证放入多晶硅后清洗液不溢出。

2．面板所有开关打到“关”位置，将清洗机插头插入220V的插座。

3．将多晶硅均匀放入清洗篮，清洗篮放入超声波清洗槽中。

4．打开电源开关，超声波清洗机开始工作，清洗时间约1小时左右。

8.优点

本机取代了传统浸洗、刷洗、压力冲洗、振动清洗和蒸气清洗等工艺方法，安全可靠无损伤，对多晶硅表面、细缝和隐蔽处清洗效果更好，清洁度更高，并且清洗速度快，提高生产效率。

1雷士振板超声波清洗机由不锈钢SUS304制造，使用寿命长。

2超声波发生器与振板之间采用高频电源连接。

3根据各种不同清洗要求，可以做成底震式、侧震式和顶震式三种超声波振板形式。

4有些单位有现成的清洗槽，可以在这基础上添加振板装置，改装成超声波清洗机。

5宽频扫描技术,消除驻波,使超声波能量分布更均匀,消除清洗盲区。

6频率自动根踪功能，适应不同的负载、温度、液位。

7灵活的拆装形式，更自由更可靠