CP-4化学机械抛光设备
更新时间:2016-07-18 09:50:39 信息编号:4699287 发布者IP:123.118.19.98 浏览:47次- 供应商
- 北京亿诚恒达科技有限公司 商铺
- 认证
- 资质核验:已通过营业执照认证入驻顺企:第11年主体名称:北京亿诚恒达科技有限公司组织机构代码:911101165731962746
- 报价
- 请来电询价
- 品牌
- 布鲁克
- 型号
- CP-4
- 关键词
- 化学机械抛光设备
- 所在地
- 北京市海淀区清河三街95号同源大厦929
- 联系电话
- 010-82718430
- 手机号
- 13167526845
- 销售经理
- 李娜 请说明来自顺企网,优惠更多
产品详细介绍
CP-4化学机械抛光设备
CP-4是世界Zui通用和Zui先进的台式化学机械抛光设备(CMP),可以很好的满足您的研发需求。完全软件控制,可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力,摩擦系数,温度,下压力,磨损,声发射等,可以模拟所有的参数,如速度,负载和流量,来模仿一个大的CMP系统。
用于化学机械抛光的研究和开发的各个方面
• 测试和开发各种不同的微粒,材料,浓度,氧化剂,抑制剂等的抛光液
• 测试和开发不同的材料,沟槽形状,尺寸,弹性,寿命等
• 测试和发展抛光垫调节装置来优化抛光垫的损耗率,修整,效率等
• 开发CMP定位环材料来优化摩擦,磨损,寿命等
• 测试去除率,重复性缺陷,工艺优化等,研究或开发各种应用的各种材料
• 半导体方面 - 铜,Ta, TaN, Al, Si, SiO, Ru, WC, solar cells, PVD, CVD,
薄膜等
• 化合物半导体 - 砷化镓,铟,磷化物,汞,镉
• 应用生物材料 - 牙,骨,钛,钢铁制品等。
• 光电材料 – LED,蓝宝石,红外窗口抛光激光材料,显微镜头,微光学,铌酸锂,钽酸锂,磷酸氧钛钾等。
同时实时监测及处理
• 通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有专利的传感器,测量负载和摩擦力,
• 通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有专利的传感器和放大器,测量接触噪声
• 使用声波表征的缺陷、划痕,并在加工过程中分层
• 监测流入的抛光液,抛光片表面和流出废液的温度 .
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