上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380
更新时间:2023-04-11 16:39:10 信息编号:4694377 发布者IP:113.90.157.200 浏览:216次- 供应商
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- 资质核验:已通过营业执照认证入驻顺企:第10年主体名称:伯东企业(上海)有限公司
- 报价
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- 品牌
- KRI
- 型号
- RFICP 380
- 产地
- 美国
- 关键词
- 射频离子源,离子源,KRI,射频源,考夫曼离子源
- 所在地
- ec@hakuto-vacuum.cn
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产品详细介绍
大口径射频离子源 RFICP
380
上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP
380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, *大离子束流 >
1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.
KRi 射频离子源 RFICP
380 特性
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8
MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 全自动控制器
5. 离子束动能 100-1200eV
6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用
射频离子源 RFICP 380 技术规格:
阳极 |
电感耦合等离子体 |
*大阳极功率 |
>1kW |
*大离子束流 |
> 1000mA |
电压范围 |
100-1500V |
离子束动能 |
100-1200eV |
气体 |
Ar, O2, N2,其他 |
流量 |
5-50sccm |
压力 |
< 0.5mTorr |
离子光学, 自对准 |
OptiBeamTM |
离子束栅极 |
38cm Φ |
栅极材质 |
钼 |
离子束流形状 |
平行,聚焦,散射 |
中和器 |
LFN 2000 |
高度 |
38.1 cm |
直径 |
58.2 cm |
锁紧安装法兰 |
12”CF |
射频离子源 RFICP 380 基本尺寸:
上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP
220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的
Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.
作为蚀刻机的核心部件, KRI
射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长,
满足各种材料刻蚀需求!
若您需要进一步的了解 KRi
射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生
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