产品名称 | 2892-51-5 | 化学名 | 方酸、方形酸、方型酸 |
型号 | 方酸、方形酸、方型酸 | 用途 | 合成光电敏感材料、药物的合成 |
外观性状 | 方酸、方形酸、方型酸 | 含量 | 方酸、方形酸、方型酸(%) |
重金属 | 方酸、方形酸、方型酸(ppm) | 规格 | 方酸、方形酸、方型酸 |
方酸用途:
1、它可用来合成光电敏感材料、如液晶显示材料、有机
光导体,可用于制造光盘、光敏染料、聚酯稳定剂等;
2、也可用于药物的合成,如合成抗组织胺类药物、抗病
毒药、抗菌剂;
3、还可用于合成植物生长调节剂、除莠剂等。
4、方酸类染料是一类重要的功能性染料,广泛地应用于
静电复印、太阳能电池和光记录材料.
由于用方酸合成的化合物附加值很高,其结构和物理化学
性质独特,所以一直受到日本、德国、美国等国的各大公
司和大学的关注。
方酸、方形酸、3,4-dihydroxycyclobut-3-ene-1,2-dione;
squaric acid;3,4-dihydroxy-3-cyclobutene-1,2-dione
名称:
3,4-二羟基-3-环丁烯-1,2-二酮
分子式:c4h2o4
分子量:114.06
cas登陆号:2892-51-5
纯度(%):≥98
熔点:>300°c
外观:白色晶体粉末