PECVD和ALD专业制造商和服务商
更新时间：2021-11-15 16:04:16 信息编号：4494626 发布者IP：123.119.174.125 浏览：318次
- 供应商
- 北京维意真空技术应用有限责任公司 商铺
- 认证
- 资质核验：已通过营业执照认证入驻顺企：第9年主体名称：北京维意真空技术应用有限责任公司组织机构代码：91110228069571936J
- 报价
- 请来电询价
- 品牌
- 维意真空
- 型号
- ALD
- 关键词
- 维意真空，ALD，原子层沉积镀膜设备，PE-ALD，等离子体增强原子层沉积镀膜设备
- 所在地
- 北京市大兴区旧桥路25号院
- 联系电话
- 010-67947887
- 手机号
- 15611171559
- 销售部经理
- 于磊 请说明来自顺企网，优惠更多
产品详细介绍
原子层沉积设备简称ALD设备（ Atomic Layer Deposition System的简写）其镀膜方法是每个周期镀一次单原子层膜，通过反复循环镀膜周期形成薄膜。可达到单原子层级别的膜厚控制，可镀高质量 ，且高阶梯覆盖性薄膜。
作为一种表面控制的、自限制性的化学气相沉积方法，ALD既可以在大面积平面衬底表面也可以在复杂的纳米尺度衬底表面（如超高深宽比沟槽与复杂弯曲的多孔材料）上进行均匀性、保形性、无缺陷、裂痕与针孔的薄膜生长。生长的薄膜种类繁多，除氧化物、氮化物、硫化物、氟化物以及纯金属单质薄膜外，还包括纳米叠层、梯度层、复合氧化物和掺杂薄膜等。它们的应用范围十分广泛，如半导体与集成电路、MEMS/NEMS、传感器、光学与光电器件、催化剂、清洁与可再生能源、防腐蚀保护层、装饰涂层与抗变色涂层、水钝化与创新型的包装材料等。
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相关产品：维意真空 , ALD , 原子层沉积镀膜设备 , PE-ALD , 等离子体增强原子层沉积镀膜设备
